應(yīng)用領(lǐng)域：
真空管式爐（Vacuum Tube Furnace）是一種在**真空或可控氣氛**環(huán)境下進(jìn)行高溫?zé)崽幚淼脑O(shè)備，廣泛應(yīng)用于以下領(lǐng)域：
材料科學(xué)
- 納米材料合成：碳納米管（CNTs）、石墨烯、量子點(diǎn)的可控生長。
- 陶瓷燒結(jié)：氧化物（Al₂O₃、ZrO₂）、氮化物（Si₃N₄）的高溫致密化。
半導(dǎo)體與電子
- 晶圓退火：硅片、GaAs、SiC的摻雜活化與缺陷修復(fù)。
- 薄膜沉積（CVD/PVD前驅(qū)體處理）：如MoS₂、WS₂的硫化物生長。
新能源
- 鋰電池材料：正極（NCM、LFP）的煅燒、負(fù)極硅碳復(fù)合。
- 氫能：儲氫合金（如MgH₂）的活化與改性。
金屬處理
- 高溫合金：鎳基/鈦合金的固溶處理與時(shí)效硬化。
- 粉末冶金：金屬注射成型（MIM）脫脂與燒結(jié)。
化學(xué)與催化
- 催化劑制備：負(fù)載型催化劑（如Pt/C）的還原與活化。
- 氣相反應(yīng)：化學(xué)氣相傳輸（CVT）法合成單晶材料。
科研實(shí)驗(yàn)
- 高溫相變研究、氣氛敏感材料處理、真空封管實(shí)驗(yàn)等。

技術(shù)特點(diǎn)

1. 真空與氣氛控制
- 真空度：機(jī)械泵（10⁻³ mbar）→分子泵（10⁻⁶ mbar）可選。
- 氣氛類型：惰性（Ar、N₂）、還原性（H₂、CO）、腐蝕性（Cl₂、NH₃，需特殊材質(zhì)）。
2. 加熱系統(tǒng)
- 加熱元件：
- 電阻絲（1200℃，如Kanthal）
- 硅鉬棒（1700℃）
- 石墨（1800℃，需惰性氣氛）
- 溫控精度：±1℃（PID控制），多溫區(qū)獨(dú)立控溫可選。
3. 管式反應(yīng)腔設(shè)計(jì)
- 材質(zhì)：石英管（<1200℃）、氧化鋁管（<1600℃）、不銹鋼（真空密封）。
- 尺寸：直徑50~300mm，長度500~2000mm（支持定制）。
4. 安全與自動化
- 安全聯(lián)鎖：過溫保護(hù)、真空泄漏報(bào)警、應(yīng)急氣源切換。
- 數(shù)據(jù)記錄：溫度-壓力曲線實(shí)時(shí)存儲，支持遠(yuǎn)程監(jiān)控。
5. 特殊功能擴(kuò)展
- 旋轉(zhuǎn)功能：增強(qiáng)粉體加熱均勻性。
- 氣體預(yù)混系統(tǒng)：控制反應(yīng)氣體比例（如H&#8322;/Ar混合）。
- 快速冷卻：爐管外置水冷套，降溫速率可調(diào)。