高耐蝕超薄納米電鍍鎳NP-NI888添加劑
為了能夠容易獲得*佳的微孔鍍鉻法的防腐蝕結構、開發(fā)出一種新型的高耐腐蝕性鍍鎳工藝。NP-Ni888 是以已往的復合電鍍技術精華為基礎、極大程度改變了很多性能、產生出深為廣泛應用的一種新型工藝,具有優(yōu)異的耐蝕性，而且鍍層薄，特別是在金屬件上直接進行電鍍，可簡化工藝流程，減少廢水的排放。
操作條件：
納米NP-Ni888添加劑 *佳 范圍
濃度（ｇ／L） 1 0.5－1.5
電鍍時間/分鐘 5 3-8
電流密度（A/dm2） 3 2-5
附1：銅拉絲件*佳工藝流程1：
銅件→拉絲→除臘→除油→活化→納米電鍍鎳（3～5min3A/dm２） →套鉻（0.15-0.3微米），結果：樣品CASS測試結果通過80小時以上，ASS測試通過96小時以上，熱淬火試驗結果ｏｋ
附2：銅拉絲件*佳工藝流程2：
銅件→拉絲→除臘→除油→活化→沖擊鎳（3min3A/dm２）→納米電鍍鎳（3min3A/dm２） →套鉻（0.15-0.3微米），結果：樣品CASS測試結果通過80小時以上，ASS測試通過96小時以上，熱淬火試驗結果ｏｋ
附3：銅CP件工藝流程：
銅件CP→除臘→除油→活化→酸銅→納米電鍍鎳（3～5min3A/dm２） →套鉻（0.25-0.5微米），結果：樣品CASS測試結果通過8小時以上
附4：鐵基材CP件工藝流程：
鐵基材CP→除臘→除油→活化→酸銅→納米電鍍鎳（3～5min3A/dm２） →套鉻（0.25-0.5微米），結果：樣品CASS測試結果通過8小時以上
附5:ABS塑膠拉絲件工藝流程：
ABS→……→沙銅→拉絲 →納米電鍍鎳 （5min3A/dm２） →套鉻
結果：樣品CASS測試結果通過8小時。
附6:ABS塑膠CP件工藝流程：
ABS→……→酸銅→半光鎳→全光鎳→ 納米電鍍鎳 （3min3A/dm２） →套鉻
結果：總的鎳層厚度控制在7～8微米，樣品CASS測試結果通過24小時以上。
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