蘭州理工大學(xué)合金粉末廠張富邦、胡春蓮經(jīng)過多年潛心研制出一套具有自主知識產(chǎn)權(quán)的制取合金及單金屬粉末的氣霧化、水霧化噴嘴。在關(guān)鍵性的技術(shù)方面取得突破性進展。目前，該氣霧化、水霧化噴嘴已申報國家專利。
    水霧化噴嘴是用水霧化法制取單金屬及合金粉末的關(guān)鍵設(shè)備。國內(nèi)從六十年代開始眾多廠家分別研制了不同角度、不同噴射法的水霧化噴嘴，但在應(yīng)用過程中因出粉率低，使用性不穩(wěn)定等諸多因素一直未達到國外水霧化噴嘴的各項指標(biāo)。2000年蘭州理工大學(xué)合金粉末廠張富邦、胡春蓮針對困擾本企業(yè)的制粉噴嘴問題，經(jīng)過反復(fù)試驗，終于研制成功了一套適用于單金屬及合金粉末水霧化生產(chǎn)的ZH-SW-01型水霧化噴嘴。該噴嘴在使用于本企業(yè)的合金粉末產(chǎn)生之外并配備于金川公司“863” 單金屬粉體工程之中，以出粉率達85%以上得到了評審專家的好評。在合金粉末霧化過程中，該噴嘴以球形度好、成品率高得到了國內(nèi)同行的青睞。
    ZH-QW-01型氣霧化噴嘴是在真空狀態(tài)下用惰性氣體霧化單金屬及合金粉末的關(guān)鍵性技術(shù)。國內(nèi)目前沒有一套能夠配套真空霧化系統(tǒng)的自行研制成功的氣霧化噴嘴。2003年蘭州理工大學(xué)合金粉末廠在成功研制真空霧化系統(tǒng)之后因沒有一套能于之相配套的氣霧化噴嘴而使該真空霧化系統(tǒng)一度廢棄。后來經(jīng)過張富邦、胡春蓮二同志一年多的研制，于2004年成功開發(fā)出一套適用于真空狀態(tài)下霧化單金屬及合金粉末的ZH-QW-01型氣霧化噴嘴。目前該霧化噴嘴成功的運行在本企業(yè)的一套9米高的真空霧化系統(tǒng)之中，能夠生產(chǎn)Co、Ni、W、Mo等單金屬及無硼鈷基合金粉末，-80+280目出粉率達45%，-200目出粉率達50%以上。 
  
 

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